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多層膜沉積設(shè)備VES-10的功能優(yōu)勢(shì)
該設(shè)備有兩個(gè)獨(dú)立的腔室，分別具有碳蒸發(fā)、磁控濺射、親水處理等功能。一臺(tái)設(shè)備具備VC-300、MSP-1S、PIB-10三種型號(hào)的性能。兩個(gè)排氣管系統(tǒng)使用外部旋轉(zhuǎn)泵排氣進(jìn)行切換。
另外，每個(gè)腔室都可以獨(dú)立抽真空并釋放到大氣中，并且腔室可以保持真空。
碳蒸鍍
TEM、SEM、X射線分析等碳膜生成設(shè)備用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。
這是用于離子濺射
SEM觀察的貴金屬薄膜鍍膜專用裝置。我們進(jìn)行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生效率。除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外，還將樣品臺(tái)制成浮動(dòng)式，以減少電子束流入對(duì)樣品造成的損壞。
親水處理
用于透射電鏡網(wǎng)格、火棉膠支撐膜、碳支撐膜等金剛石刀具的親水處理，以及油脂污漬的清洗。
交流放電產(chǎn)生的等離子體離子照射到樣品表面。破壞樣品表面的化學(xué)鍵并形成官能團(tuán)。這促進(jìn)了活性樣品表面和水分子之間的化學(xué)鍵合，使其具有親水性。
它還可以有效破壞油污和脂肪污漬的化學(xué)鍵并將其去除。
照射強(qiáng)度（軟/硬）可以切換。
該產(chǎn)品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉(zhuǎn)泵和 SUS 軟管。
需要親臨現(xiàn)場(chǎng)講解安裝和操作。
VES-10 的
金靶材
[t=0.1mm]
VES-10 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]
VES-10 的
Au-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Au60%: Pd40%
VES-10 的
Pt-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Pt80%: Pd20%
VES-10 的
銀靶材
[t=0.5mm]
專用碳
SLC-30
1箱（100個(gè)）
碳纖維
SLC-30
10 盒套裝
VES-10 玻璃瓶包裝（2 件為 1 套）
VES10 碳涂層側(cè)玻璃腔室
VES10 離子涂層側(cè)玻璃室
旋轉(zhuǎn)泵油（500ml）
[SMR-100]
如果玻璃室、夾緊彈簧和防塵板等老化或損壞的部件，我們還可以制造它們。
對(duì)于任何其他維護(hù)/維修查詢，請(qǐng)通過服務(wù)查詢與我們聯(lián)系。
Au：金
觀察面積：數(shù)千至10,000倍
Au-Pd：金鈀
觀察面積：10,000至50,000倍
適合低倍率觀察，對(duì)比度良好。
Pt：鉑
觀察面積：10,000～50,000倍
Pt-Pd：鉑鈀
觀察面積：30,000～50,000倍
粒徑細(xì)小，常用于高倍率觀察。
該裝置濺射功能的主要目的是在臺(tái)式SEM或通用SEM觀察之前進(jìn)行導(dǎo)電涂層。
*如果您使用能夠高倍觀察的FE-SEM，請(qǐng)考慮使用鎢濺射裝置（MSP-20TK）或鋨鍍膜機(jī)（HPC-20）。
*如果您優(yōu)先考慮電極制作等的薄膜質(zhì)量，請(qǐng)考慮可在氬氣氣氛中濺射的MSP-20系列。
碳鍍膜機(jī)主要分為僅有旋轉(zhuǎn)泵排氣的設(shè)備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設(shè)備。了解高真空蒸發(fā)設(shè)備性能的差異在選擇設(shè)備時(shí)非常有用。
旋轉(zhuǎn)泵排氣氣相沉積設(shè)備 VES-10、VC-300S/W | 高真空抽真空沉積設(shè)備 VE-2013、VE-2050 等 | |
| 真空排氣系統(tǒng) | 旋轉(zhuǎn)泵 | 旋轉(zhuǎn)泵+渦輪分子泵 |
| 沉積真空度 | 1-2（帕） | 5×10 -3 (Pa)以下 |
| 顆粒感 |  顆粒細(xì)，但膜較粗。 |  顆粒細(xì)密，膜質(zhì)美觀。 |
| 膜質(zhì)量 | 該薄膜粗糙且易碎，因?yàn)樗谂c殘余分子碰撞時(shí)積累。 | 無殘留分子，顆粒呈直線飛行、粘附，膜質(zhì)潔凈、堅(jiān)固。 |
| 環(huán)繞能力 | 它在與殘余分子碰撞時(shí)向多個(gè)方向散射，因此具有一些環(huán)繞特性。 | 顆粒沿直線飛行并粘附，但在陰影區(qū)域不形成薄膜。 |
| 使用碳?xì)庀喑练e的目的 | 切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護(hù)膜等。 | 切片和支撐膜的強(qiáng)化、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護(hù)膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。 |
*碳鍍膜機(jī)是針對(duì)特定用途而設(shè)計(jì)的，其用途有限，但可以降低設(shè)備價(jià)格。
| 物品 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 電源 | AC100V（單相100V15A）3P帶地插頭1口 |
| 設(shè)備尺寸 | 寬度400mm，深度360mm，底座高度280mm CARBON室高度+185mm ION室高度+101mm （設(shè)備重量：29Kg） |
| 旋轉(zhuǎn)泵 | 抽速 50?/min (GLD-051) 重量 13.9kg 旋轉(zhuǎn)泵油 (SMR-100) 使用量：600-800ml |
| 碳蒸鍍側(cè)規(guī)格 | |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm，高140mm（硬玻璃） |
| 氣相沉積源-樣品臺(tái)距離 | 直徑50mm（浮動(dòng)法） |
| 電極-樣品臺(tái)距離 | 45mm 至 75mm 可調(diào) |
| 樣品臺(tái)尺寸 | Φ100mm |
| 可安裝樣品尺寸 | Φ98mm，最大樣品高度40mm |
| 氣相沉積電源 | 排氣、蒸發(fā)。 每個(gè)固定電壓進(jìn)行 2 步切換，預(yù)設(shè)為最佳電壓 |
| 碳源 | 專用補(bǔ)充型碳SLC-30 |
| 電離室側(cè)面規(guī)格 | |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm，高65mm（硬玻璃） |
| 電極-樣品臺(tái)距離 | 固定在35mm |
| 樣品臺(tái)尺寸 | Φ50mm（浮動(dòng)法） |
| 濺射靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管式靶電極 |
| 目標(biāo)金屬規(guī)格 | Φ51mm，厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag（t0.5mm） |
| 濺射電源 | DC500V、0~50mA（可變電阻調(diào)節(jié)） |
| 親水處理用電極 | Φ50mm，不銹鋼靶材 |
| 親水處理電源 | SOFT: 450V, 10~20mA HARD: 550V, 20~30mA (可任意切換) |
