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      膜厚測(cè)量系統(tǒng) 測(cè)厚儀

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      更新日期:2025-05-02

      簡(jiǎn)要描述:

      日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20
      一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),已在安裝了 5,000 多臺(tái)。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場(chǎng)在線測(cè)量的廣泛應(yīng)用。

      膜厚測(cè)量系統(tǒng) 測(cè)厚儀
      類型數(shù)字式測(cè)量范圍1

      日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20

      一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),已在安裝了 5,000 多臺(tái)。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場(chǎng)在線測(cè)量的廣泛應(yīng)用。
      F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測(cè)量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
      它還支持多點(diǎn)在線測(cè)量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊,因此可以通過(guò)PLC或上位機(jī)進(jìn)行控制。

      主要特點(diǎn)

      • 支持廣泛的膜厚范圍(1 nm 至 250 μm)

      • 支持寬波長(zhǎng)范圍(190nm 至 1700nm)

      • 強(qiáng)大的膜厚分析

      • 光學(xué)常數(shù)分析(折射率/消光系數(shù))

      • 緊湊的外殼

      • 支持在線測(cè)量

      日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20

      主要應(yīng)用

      平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
      各種光學(xué)膜等。
      半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
      光學(xué)鍍膜防反射膜、硬涂層等
      薄膜太陽(yáng)能電池CdTe、CIGS、非晶硅等
      砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等
      醫(yī)療的鈍化、藥物涂層等

      產(chǎn)品陣容

      模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX
      測(cè)量波長(zhǎng)范圍190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
      膜厚測(cè)量范圍1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
      準(zhǔn)確性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
      1納米2納米3納米2納米1納米
      測(cè)量光斑直徑支持高達(dá)1.5 毫米或 0.5 毫米
      小 0.1 毫米(可選)
      光源

      氘·

      鹵素

      鹵素

      氘·

      鹵素

      * Filmometry 提供的測(cè)量 Si 基板上的 SiO2 膜時(shí)器件主體的精度。


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