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      thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

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      更新日期:2024-03-23

      簡(jiǎn)要描述:

      thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
      CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來(lái)大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國(guó)國(guó)家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。

      thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
      品牌其他品牌燃料電加熱鍋爐
      結(jié)構(gòu)形式立式出口壓力高壓

      thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

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      ? 型號(hào)。 納米CVD-8G(用于石墨烯合成)
      ?型號(hào)。 納米CVD-8N(用于碳納米管)


      每批僅需 1 分鐘,可輕松合成高質(zhì)量石墨烯和碳納米管

      CVD(化學(xué)氣相沉積)

      CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來(lái)大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國(guó)國(guó)家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。 在與研究機(jī)構(gòu)的合作下,已經(jīng)驗(yàn)證了使用拉曼光譜,SEM,AFM等分析數(shù)據(jù)可以制備高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。 

      冷壁CVD

      采用冷壁/高溫樣品加熱臺(tái)(熱板),反應(yīng)快,重現(xiàn)性好。 設(shè)備小型化,加工時(shí)間縮短,可操作性強(qiáng),可創(chuàng)建并存儲(chǔ)30種合成配方。 除了標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)配置外,還可以根據(jù)要求定制設(shè)備配置。 nanoCVD系統(tǒng)是一種實(shí)驗(yàn)裝置,盡管體積小,但具有為基礎(chǔ)研究和開(kāi)發(fā)領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)的無(wú)限潛力。

      特征

      • 無(wú)需使用大型設(shè)備即可輕松進(jìn)行石墨烯碳納米管 (SWNT) 沉積實(shí)驗(yàn)

      • 1批次只需30分鐘!

      • 冷壁式高效高精度過(guò)程控制

      • 快速升溫:室溫→1100°C約3分鐘

      • 高性能機(jī)器,具有高精度的溫度流量控制和出色的可重復(fù)性

      • 操作簡(jiǎn)單! 通過(guò) 5 英寸觸摸屏進(jìn)行操作和配方管理

      • 最多可創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 步合成程序。

      • 標(biāo)配專用軟件,數(shù)據(jù)記錄為輸出PC上的CSV文件

      • USB電纜連接,PC端的配方創(chuàng)建→上傳到設(shè)備

       thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

      主要規(guī)格

      A. 主要規(guī)格

      1. 反應(yīng)室

      不銹鋼SUS304泄漏檢查

      2. 加熱階段

      陶瓷

      3. 兼容的樣本量

      20 x 40毫米

      4. 加熱加熱器

      高純石墨加熱器MAX1050°C

      5. 溫度控制

      包括K型熱電偶標(biāo)準(zhǔn)(安裝在加熱臺(tái)下方)

       

      B. 過(guò)程控制設(shè)備規(guī)格

      1. 氣體控制

      質(zhì)量流量控制器 x 3 (Ar, H2, CH4)

      2. 壓力控制

      20托爾·

      3. 真空抽真空

      包括愛(ài)德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3?/小時(shí))

      4. 操作面板

      前置式 5 英寸觸摸屏 (歐姆龍)

      5. 風(fēng)冷

      通過(guò)冷卻風(fēng)扇對(duì)外殼進(jìn)行內(nèi)部冷卻

      6. 控制系統(tǒng)

      PLC自動(dòng)過(guò)程控制

       

      C. 軟件(包括標(biāo)準(zhǔn))

      1. 納米CVD軟件

      包括標(biāo)準(zhǔn)(安裝石墨烯的標(biāo)準(zhǔn)程序)

      2. 界面

      USB 2.0 連接

      3. 設(shè)置次數(shù)

      最多可以創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 個(gè)步驟

       

      D. 氣體引入連接規(guī)格

      1. 工藝氣體

      2 x 4/1 英寸世偉洛克卡套管連接,用于 Ar、H4、CH3

      2. 載氣

      N2 或 AR φ6mm 推鎖管連接 x 1

       

      E. 安全裝置

      1. 過(guò)熱

      由安裝在加熱臺(tái)上的熱電偶控制

      2. 外殼內(nèi)部過(guò)熱

      從內(nèi)部溫度開(kāi)關(guān)

      3. 氣壓異常

      從質(zhì)量流量控制器

      4. 真空減少

      從真空傳感器

       

      F. 公用事業(yè)

      權(quán)力

      AC200V 單相 50/60Hz 13A

      1. 工藝氣體壓力

      最大 30psi 200sccm

      2. 載氣壓力

      60-80磅/平方英寸

       

      G. 尺寸和重量

      1. 尺寸

      405毫米(寬) x 415毫米(深) x 280毫米(高)

      2. 重量

      約27公斤



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